تبلیغات
danesh1 - مراحل ساخت cpu
درباره وبلاگ

آرشیو

آخرین پستها

پیوندها

پیوندهای روزانه

صفحات جانبی

نویسندگان

ابر برچسبها

نظرسنجی

آمار وبلاگ

Admin Logo
themebox

ابتدا مونوکریستال های بزرگ سیلیکون1 (شمش های سیلیکونی با خلوص %99.999999999) توسط تیغه های الماس به ویفرهای سیلیکونی2 برش داده می شوند. 

سطح ویفرهای سیلیکونی صیقل داده می شود تا هیچ خدشه ای در آنها باقی نمانده و کاملا آینه ای شوند.


با تشکیل لایه فیلم اکسید3 در سطح ویفر، فرایند تبدیل ویفرهای سیلیکونی به قطعات نیمه هادی آغاز می شود


سطح ویفر با ماده ای حساس به نور  4(Photoresist) پوشش داده می شود.


ماسک هایی با طرح مشخص روی ویفر قرار گرفته و لایه Photoresist در نقاط دلخواه در معرض اشعه فرابنفش (UV) قرار می گیرد.


آن قسمت از لایه Photoresist که در معرض اشعه UV قرار داشته با استفاده از نوعی حلال شسته می شود (وقتی لایه photoresist در معرض نور UV قرار می گیرد، دچار تغییر شیمیایی شده و توسط حلال حل می شود).


 سپس لایه فیلم اکسید تشکیل شده روی سطح سیلیکون با استفاده از یک عامل سوزاننده برداشته می شود تا سطح سیلیکون برای مرحله بعدی آماده شود.


در مرحله بعد یون های مورد نیاز به سطح سیلیکون تابانده شده و با تغییر خاصیت شیمیایی سیلیکون، CPU میتواند کنترل شارژ الکتریکی را به دست بیاورد. در این مرحله سیلیکون قابل تبدیل به قطعات الکترونیکی خواهد بود.


از هر ویفر سیلیکونی تعداد زیادی تراشه ساخته می شود. تراشه ها با استفاده از کاوشگرهای الکتریکی (Prober) تست شده و تراشه های خوب و بد از هم تفکیک می شوند.


تراشه های باکیفیت از ویفر جدا می شوند.


پایه های لحیم کاری که به زیر تراشه افزوده می شوند، با پایه هایی که بر روی برد سرامیکی یا رزینی قرار دارند تطابق دارند.


حالا CPU آماده کار است. بعد از آزمایشات مختلف تنها محصولات با کیفیت برای استفاده انتخاب می شوند.



1- Silicon monocrystal: ماده اولیه صنایع الکترونیک که شامل شبکه ای به هم پیوسته از یون های سیلیکون (نام تجاری سیلیسیم) می باشد.

2- Silicon wafer: ویفر سیلیکون به یک برش نازک از مونوکریستال سیلیکون می گویند که به عنوان بستر ساخت تراشه ها به کار می رود.

3- Film oxid: یک ترکیب شیمیایی شامل اکسیژن است که وقتی فلزات در معرض هوا قرار می گیرند، در سطح آنها تشکیل می شود. تشکیل این لایه تا حد زیادی مانع از واکنش های بعدی فلزات می شود.

4- Photoresist: ماده ای حساس به نور که در فرایند های صنعتی مختلف استفاده شده و مانند ماده ظهور عکس عمل می کند.

 

مرجع:سایت بهینه



نوشته شده توسط :mahboobeh eravani
جمعه 7 بهمن 1390-11:39 ب.ظ